دنیای نانو

دنیای نانو

رسانندگی گرمایی در نانوساختارهای چاه کوانتومی دوبعدی نیمه هادی

نوع مقاله : مقاله پژوهشی

نویسندگان
گروه فیزیک، دانشکده علوم، دانشگاه بوعلی سینا، همدان، ایران
چکیده
اخیرا خواص حرارتی نانوساختارهای نیمرسانا و ابرشبکه هاتوجه زیادی را به دلائل زیر به خود معطوف کرده است. اولا کاهش پیوسته ابعاد مدارها و افزاره های میکروالکترونیک که باعث افزایشی در توان اتلافی در واحد سطح تراشه ی نیمه هادی می شود. در نتیجه تاثیر آثار اندازه روی رسانش گرمایی برای طراحی افزاره و قابلیت اعتماد به آن بسیار حائز اهمیت خواهد بود. ثانیا طراحی و ساخت دستگاه های دو بعدی چاه کوانتومی نیمه هادی ناهمگون منجر به کاهش رسانش گرمایی و بهبود کارائی ترموالکتریکی آنها می‌شود. در این کار پژوهشی خواص گرمایی یک ساختار دوبعدی نیمه هادی مانند چاه کوانتومیSi و Ge با لحاظ نرخ واهلش فونون در فرآیندهای پراکندگی واگرد، پراکندگی مرزی و پراکندگی اختلاف جرم را بررسی کرده و رسانش گرمایی را محاسبه و رسم کردیم. مشاهده گردید که هدایت حرارتی می تواند با تنظیم ضخامت لایۀ جداگر تعدیل شود. همچنین نتایج محاسبات نشان می دهد که هدایت حرارتی چاه کوانتومی نمونه در حدود یک مرتبه کمتر از انبوهۀ مشابه اش است. نتایج ما با داده های نظری و تجربی اخیر توافق دارد.
کلیدواژه‌ها

موضوعات


عنوان مقاله English

Thermal conductivity in semiconductor two-dimensional quantum well nanostructures

نویسندگان English

Ghassem Ansaripour
Allahyar Anosh
Department of Physics, Faculty of Science, Bu-Ali Sina University, Hamedan, Iran
چکیده English

Abstract: The thermal properties of semiconductor and superlattice nanostructures have recently gained more care for the following reasos. Firstly, the gradual shrink of the dimensions of devices and microelectronic circuits, which causes an increase in the semiconductor dissipative power per unit area. As a result, the thermal conductivity and reliability of the device would be important due to size effects. Secondly the design and fabrication of two-dimensional heterostructure semiconductor quantum well devices lead to the reduction of heat conduction and improvement of their thermoelectric efficiency. In this work, the thermal properties of two-dimensional semiconductor structures such as Si and Ge quantum wells is investigated regarding the phonon relaxation rates of the the umklapp scattering processes, boundary scattering, mass difference scattering and the thermal conductivity is calculated and plotted. It is seen that the thermal conductivity can be tuned by adjusting the spacer layer. Also the calculated results show that the thermal conductivity of the quantum well sample is nearly one order less than that of its bulk. Our results agree with recent theoretical and experimental data.

کلیدواژه‌ها English

Key Words: Phonon
Quantum well
Umklapp process
Nanostructure
دوره 20، شماره 75
تابستان 1403
صفحه 39-46

  • تاریخ دریافت 28 فروردین 1403
  • تاریخ بازنگری 24 تیر 1403
  • تاریخ پذیرش 17 مرداد 1403